أعلنت جامعة نينوى عن تحقيق إنجاز علمي جديد يُضاف إلى سجلها البحثي، بعد نشر بحث علمي لطالبة الدراسات العليا (الماجستير) في كلية هندسة الإلكترونيات نادية خالد مصطفى في مجلة Next Materials الصادرة عن دار النشر العالمية Elsevier، والمفهرسة ضمن قاعدة بيانات Scopus، والمصنفة ضمن الربع الثاني (Q2) في مجال الهندسة.
وجاء البحث بعنوان:
Effect of Ferroelectric HfO₂ Gate Thickness on Performance of Asymmetric Extension Drain-Source DG-NCFETs
وأُنجز البحث بإشراف الأستاذ الدكتور قيس ذنون الجواري، متناولًا تأثير سمك طبقة أكسيد الهافنيوم الحديدي الكهربائي (HfO₂) في تحسين أداء نوع متقدم من الترانزستورات، بما يواكب التطورات الحديثة في مجال هندسة الإلكترونيات وتقنيات أشباه الموصلات.
ويجسد هذا النشر العلمي المستوى المتقدم للبحث العلمي في جامعة نينوى، ويعكس اهتمامها بتشجيع طلبة الدراسات العليا والباحثين على النشر في المجلات العالمية الرصينة، بما يسهم في تعزيز حضور الجامعة في المحافل الأكاديمية الدولية، وترسيخ مكانة الباحث العراقي في المجتمع العلمي العالمي.
وبهذه المناسبة، تتقدم رئاسة جامعة نينوى بأحر التهاني إلى الباحثة نادية خالد مصطفى، وإلى مشرفها الأستاذ الدكتور قيس ذنون الجواري، متمنيةً لهما دوام النجاح والتوفيق، ولجامعة نينوى مزيدًا من التميز والإنجازات العلمية.